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公司主要代理韓國(guó)INSTAR CO., LTD.（英仕達(dá)）的清洗劑，蝕刻液等產(chǎn)品，專業(yè)為半導(dǎo)體生產(chǎn)企業(yè)提供硅產(chǎn)品表面清洗，蝕刻等用途產(chǎn)品。近年來，隨著半導(dǎo)體線路微細(xì)化的不斷發(fā)展，在石英，硅片清洗過程中對(duì)顆粒、金屬污染的去除要求越來越高，我公司所進(jìn)口的蝕刻液，清洗劑可以滿足半導(dǎo)體制造中對(duì)硅環(huán)，硅片，以及石英材料去除雜質(zhì)的工藝需求，是半導(dǎo)體材料硅產(chǎn)品清洗的解決方案提供商。
產(chǎn)品主要成分
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硫酸 |
H?SO? |
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二氧戊烷 |
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碳酸鉀 |
K?CO? |
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焦磷酸鉀 |
K?P?O? |
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氟化氫銨 |
NH4HF2 |
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二氧戊環(huán) |
C3H6O2 |
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硝酸鉀 |
KNO3 |
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過硫酸銨 |
(NH4)2S2O8 |
